中國電子信息工程科技發(fā)展研究 光學工程國內(nèi)外發(fā)展態(tài)勢研究

　　本書圍繞基礎(chǔ)理論、關(guān)鍵技術(shù)、產(chǎn)業(yè)應(yīng)用、科技政策等內(nèi)容，系統(tǒng)梳理了當前光學工程領(lǐng)域的發(fā)展狀況，總結(jié)了全球發(fā)展態(tài)勢以及我國發(fā)展現(xiàn)狀，展望了我國光學工程領(lǐng)域的未來發(fā)展方向及其在培育新質(zhì)生產(chǎn)力方面的潛在推動作用。在此基礎(chǔ)上，圍繞光學工程領(lǐng)域的理論和方法（包括光學理論及智能設(shè)計、矢量光場調(diào)控技術(shù)等）、典型應(yīng)用（包括激光光源、光學神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)及光學計算、光學成像、光學傳感及測量、激光通信、光學顯示、綠色能源光學、跨尺度/三維激光制造等），重點介紹了全球研究熱點和亮點，以及2022～2023年取得的重要進展及突破。最后梳理了光學工程領(lǐng)域的年度熱詞，介紹了其基本含義和應(yīng)用水平。

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