注冊 | 登錄讀書好，好讀書，讀好書！
讀書網(wǎng)-DuShu.com
當(dāng)前位置： 首頁出版圖書科學(xué)技術(shù)自然科學(xué)物理學(xué)硅基高k氧化物鍶硅界面緩沖層的研究

硅基高k氧化物鍶硅界面緩沖層的研究

硅基高k氧化物鍶硅界面緩沖層的研究

定　價：￥35.00

作　者： 杜文漢
出版社： 江蘇大學(xué)出版社
叢編項：
標(biāo)　簽： 暫缺
ISBN： 9787568410304 出版時間： 2018-12-01 包裝：
開本： 頁數(shù)： 字數(shù)：  

內(nèi)容簡介

暫缺《硅基高k氧化物鍶硅界面緩沖層的研究》簡介

作者簡介

暫缺《硅基高k氧化物鍶硅界面緩沖層的研究》作者簡介

圖書目錄

暫缺《硅基高k氧化物鍶硅界面緩沖層的研究》目錄

本目錄推薦

掃描二維碼
Copyright ? 讀書網(wǎng) www.shuitoufair.cn 2005-2020, All Rights Reserved.
鄂ICP備15019699號 鄂公網(wǎng)安備 42010302001612號