隨著光電子信息技術、納米科技和生物生命科學的發(fā)展,要求光學成像或光刻的分辨率達到亞波長甚至納米尺度。然而,由于受到阿貝衍射極限的制約,無論是光刻的特征線寬、光盤存儲器件的最小記錄點尺寸、還是光學圖像的分辨率,按照傳統(tǒng)的衍射光學理論很難突破半波極限。對此,科研人員提出了各種方法和手段來挑戰(zhàn)半波極限,實現納米尺度的光學分辨率。《非線性超分辨納米光學及應用(英文版)》首先分析和介紹了目前突破光學衍射極限的常見方法的原理和實驗方案,然后聚焦于利用薄膜材料(特別是半導體薄膜)光學非線性效應來突破阿貝衍射極限。從薄膜材料非線性折射和吸收的表征方法出發(fā),分析半導體薄膜以及金屬摻雜半導體薄膜的非線性吸收和折射特性。