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內(nèi)容簡介

　　《微納米加工技術(shù)及其應(yīng)用（第3版）》集作者多年來的實踐經(jīng)驗與研究成果，并結(jié)合近年來國際上的最新發(fā)展，綜合介紹微納米加工技術(shù)的基礎(chǔ)，包括光學(xué)曝光技術(shù)、電子束曝光技術(shù)、聚焦離子束加工技術(shù)、掃描探針加工技術(shù)、微納米尺度的復(fù)制技術(shù)、各種沉積法與刻蝕法圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)、間接納米加工技術(shù)與自組裝納米加工技術(shù)。對各種加工技術(shù)的介紹著重講清原理，列舉基本的工藝步驟，說明各種工藝條件的由來，并注意給出典型工藝參數(shù)；充分分析各種技術(shù)的優(yōu)缺點及在應(yīng)用過程中的注意事項；以大量圖表與實例說明各種加工方法，避免煩瑣的數(shù)學(xué)分析；并以專門一章介紹微納米加工技術(shù)在現(xiàn)代高新技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用，包括超大規(guī)模集成電路技術(shù)、納米電子技術(shù)、光電子技術(shù)、高密度磁存儲技術(shù)、微機電系統(tǒng)技術(shù)、生物芯片技術(shù)和納米技術(shù)。通過應(yīng)用實例說明現(xiàn)代高新技術(shù)與微納米加工技術(shù)的不可分割的關(guān)系，并演示如何靈活應(yīng)用微納米加工技術(shù)來推動這些領(lǐng)域的技術(shù)進(jìn)步。與國內(nèi)外同類出版物的相比，《微納米加工技術(shù)及其應(yīng)用（第3版）》的顯著特點是將用于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)、用于微機電系統(tǒng)制造與用于納米技術(shù)研究的微納米加工技術(shù)綜合介紹，并加以比較。首次將微納米加工歸納為平面工藝、探針工藝和模型工藝三種主要類型，突出了微納米加工與傳統(tǒng)加工技術(shù)的不同之處。全書既注重基礎(chǔ)知識又兼顧微納米加工領(lǐng)域近年來的最新進(jìn)展，并列舉大量參考文獻(xiàn)與互聯(lián)網(wǎng)鏈接網(wǎng)址，供進(jìn)一步發(fā)掘詳細(xì)信息與深入研究。因此不論是對初次涉足這一領(lǐng)域的大專院校的本科生或研究生，還是對已經(jīng)有一定工作經(jīng)驗的專業(yè)科技人員，都具有很好的參考價值。

作者簡介

　　崔錚，東南大學(xué)（原南京工學(xué)院）本科畢業(yè)（1981年），并獲該校碩士（1984年）和博士（1988年）學(xué)位。1989年受英國科學(xué)與工程研究委員會訪問研究基金全額資助（SERC Visiting Fellowship），到英國劍橋大學(xué)微電子研究中心做博士后研究。1993年到英國盧瑟福國家實驗室微結(jié)構(gòu)中心做高級研究員。1999年起任英國盧瑟福國家實驗室微結(jié)構(gòu)中心首席科學(xué)家（Principal Scientist）以及微系統(tǒng)技術(shù)中心負(fù)責(zé)人（Group Leader）。在英國工作的20年中，先后參加和主持各種科研項目25項，其中l(wèi)O項為項目首席科學(xué)家。2004年當(dāng)選為英國工程技術(shù)學(xué)會（IET）會士（Fellow）。先后獨立與合作發(fā)表學(xué)術(shù)論文190余篇。2005年出版中文專著《微納米加工技術(shù)及其應(yīng)用》（高等教育出版社），2006年出版該書的英文版《Micro- Nanofabrication Technologies and Applications》（高等教育出版社，Springer），2008年出版英文專著《Nanofabrication：Principles. Capabilities and Limits》（Springer），2009年出版《微納米加工技術(shù)及其應(yīng)用》（第二版）（高等教育出版社）。自1994年以來開始與國內(nèi)開展合作，先后受聘為國內(nèi)多家科研單位與大學(xué)的客座研究員、客座教授。2002年受聘為中國科學(xué)院海外評審專家。2004年獲中國科學(xué)院海外杰出學(xué)者（B類）基金。2007年參加中國科學(xué)院物理研究所納米電子材料與器件海外合作團(tuán)隊。2009年9月入選中共中央組織部第二批“千人計劃”（創(chuàng)新類），10月全職回國到中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所工作，創(chuàng)立了國內(nèi)首個印刷電子技術(shù)研究中心。2011年1月創(chuàng)立蘇州納格光電科技有限公司，致力于將印刷電子技術(shù)推向產(chǎn)業(yè)化。2012年3月，領(lǐng)銜印刷電子技術(shù)研究中心科研團(tuán)隊集體編著了中國第一本印刷電子學(xué)方面的專著《印刷電子學(xué)：材料、技術(shù)及其應(yīng)用》（高等教育出版社）。目前擔(dān)任中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所印刷電子學(xué)研究部主任。

圖書目錄

第1章緒論
1.1 微納米技術(shù)與微納米加工技術(shù)
1.2 微納米加工的基本過程與分類
1.3 本書的內(nèi)容與結(jié)構(gòu)
參考文獻(xiàn)
第2章光學(xué)曝光技術(shù)
2.1 引言
2.2 光學(xué)曝光方式與原理
2.2.1 掩模對準(zhǔn)式曝光
2.2.2 投影式曝光
2.3 光學(xué)曝光的工藝過程
2.4 光刻膠的特性
2.4.1 光刻膠的一般特性
2.4.2 正型光刻膠與負(fù)型光刻膠的比較
2.4.3 化學(xué)放大膠
2.4.4 特殊光刻膠
2.5 光學(xué)掩模的設(shè)計與制作
2.6 短波長曝光技術(shù)
2.6.1 深紫外曝光技術(shù)
2.6.2 極紫外曝光技術(shù)
2.6.3 X射線曝光技術(shù)
2.7 大數(shù)值孔徑與浸沒式曝光技術(shù)
2.8 光學(xué)曝光分辨率增強技術(shù)
2.8.1 離軸照明技術(shù)
2.8.2 空間濾波技術(shù)
2.8.3 移相掩模技術(shù)
2.8.4 光學(xué)鄰近效應(yīng)校正技術(shù)
2.8.5 面向制造的掩模設(shè)計技術(shù)
2.8.6 光刻膠及其工藝技術(shù)
2.8.7 二重曝光與加工技術(shù)
2.9 光學(xué)曝光的計算機模擬技術(shù)
2.9.1 部分相干光成像理論
2.9.2 計算機模擬軟件COMPARE
2.9.3 光學(xué)曝光質(zhì)量的比較
2.10 其他光學(xué)曝光技術(shù)
2.10.1 近場光學(xué)曝光技術(shù)
2.10.2 干涉光學(xué)曝光技術(shù)
2.10.3 無掩模光學(xué)曝光技術(shù)
2.10.4 激光三維微成型技術(shù)
2.10.5 灰度曝光技術(shù)
2.11 厚膠曝光技術(shù)
2.11.1 傳統(tǒng)光刻膠
2.11.2 SU-8光刻膠
2.12 LIGA技術(shù)
2.12.1 用于LIGA的X射線光源
2.12.2 X射線LIGA掩模
2.12.3 用于X射線LIGA的厚膠及其工藝
2.12.4 影響X射線LIGA圖形精度的因素
參考文獻(xiàn)
第3章電子束曝光技術(shù)
3.1 引言
3.2 電子光學(xué)原理
3.2.1 電子透鏡
3.2.2 電子槍
3.2.3 電子光學(xué)像差
3.3 電子束曝光系統(tǒng)
3.4 電子束曝光圖形的設(shè)計與數(shù)據(jù)格式
3.4.1 設(shè)計中的注意事項
3.4.2 中間數(shù)據(jù)格式
3.4.3 Auto CAD數(shù)據(jù)格式
……
第4章聚焦離子束加工技術(shù)
第5章掃描探針加工技術(shù)
第6章復(fù)制技術(shù)
第7章沉積法圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)
第8章刻蝕法圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)
第9章間接納米加工技術(shù)
第10章自組裝納米加工技術(shù)
第11章微納米加工技術(shù)的應(yīng)用