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內(nèi)容簡介

　　本書首先闡述了技術(shù)未來分析的由來與發(fā)展、研究現(xiàn)狀及研究展望。全書由“理論方法篇”和“實踐應用篇”兩個重要部分組成?！袄碚摲椒ㄆ敝攸c分析了14種技術(shù)未來分析理論方法?！皩嵺`應用篇”主要介紹了文獻計量學、技術(shù)路線圖和情景規(guī)劃在實踐中的應用。本書既可以作為從事技術(shù)管理、新技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的研究人員和研究生的參考書，又可以用于企業(yè)尋找技術(shù)創(chuàng)新突破口的方法選擇和新產(chǎn)品開發(fā)的決策依據(jù)。

作者簡介

暫缺《仿射微分幾何》作者簡介

圖書目錄

技術(shù)未來分析與未來導向技術(shù)分析（代序）
第1篇理論方法篇
　第1章　文獻計量學
　　1.1 文獻計量學的形成與發(fā)展
　　1.2　文獻計量學介紹
　　1.3 文獻計量學的應用領(lǐng)域
　　1.4　文獻計量學的優(yōu)缺點及發(fā)展趨勢
　　參考文獻
　第2章　技術(shù)路線圖
　　2.1　技術(shù)路線圖的形成與發(fā)展
　　2.2　技術(shù)路線圖介紹
　　2.3　技術(shù)路線圖的應用領(lǐng)域
　　2.4　技術(shù)路線圖與技術(shù)預測和評估
　　2.5　技術(shù)路線圖的優(yōu)缺點及發(fā)展趨勢
　　參考文獻
　……
第2篇　實踐應用篇
后記