多弧離子鍍技術與應用

l 多弧離子鍍的沉積原理與技術特點
1.1 真空鍍膜技術概論
1.1.1 真空鍍膜技術
1.1.2 真空鍍膜技術分類
1.2 多弧離子鍍的基本結構與沉積原理
1.3 多弧離子鍍的技術特點
1.4 多弧離子鍍的應用
2 工藝參數(shù)及液滴的控制
2.1 大顆粒的產生
2.1.1 產生原因
2.1.2 大顆粒的輸運
2.2 大顆粒的去除
2.2.1 大顆粒發(fā)射的抑制
2.2.2 在等離子體輸運過程中大顆粒數(shù)量的減少
2.2.3 其他過濾器
2.3 大顆粒的控制效果
2.4 大顆?？刂频墓に噷崿F(xiàn)及優(yōu)化
2.4.1 弧電源
2.4.2 工藝參數(shù)的控制
2.4.3 過濾器的采用
參考文獻
3 多弧離子鍍設備的改進
3.1 國內外早期設備
3.1.1 國外早期設備簡介
3.1.2 國內早期設備簡介
3.2 現(xiàn)階段設備進展
3.2.1 國外設備進展
3.2.2 國內設備進展
3.3 設備技術發(fā)展方向
參考文獻
4 多弧離子鍍超硬反應膜
4.1 多弧離子鍍TiN超硬反應膜
4.1.1 TiN膜的沉積工藝
4.1.2 TiN膜層織構
4.1.3 TiN膜層缺陷——液滴
4.1.4 TiN膜層的摩擦磨損性能
4.1.5 TiN膜層的機械加工性能
4.2 多弧離子鍍CrN超硬反應膜
4.3 多弧離子鍍ZrN超硬反應膜
4.4 多弧離子鍍(Ti，A1)N超硬膜
4.4.1 (Ti，A1)N膜的制備技術
4.4.2 (Ti，A1)N膜層
4.4.3 (Ti，A1)N膜的沉積參數(shù)
4.4.4 (Ti，A1)N膜的相組成及晶體結構
4.4.5 (Ti，A1)N膜的硬度和楊氏模量
4.4.6 (Ti，A1)N膜的過渡層與結合力
4.4.7 (Ti，A1)N膜的氧化腐蝕性能
4.4.8 (Ti，A1)N膜的機械加工性能
4.5 多弧離子鍍(Ti，Cr)N超硬膜
4.6 多弧離子鍍(Ti，Zr)N超硬膜
4.7 多弧離子鍍多元超硬反應膜
4.7.1 TiAlZrN超硬反應膜
4.7.2 TiAlCrN超硬反應膜
參考文獻
5 多弧離子鍍高溫防護涂層
5.1 高溫防護涂層概述
5.1.1 高溫防護涂層的歷史發(fā)展[1]
5.1.2 高溫防護涂層的作用
5.2 MCrAlX高溫合金防護涂層[2]
5.2.1 MCrAlX型涂層的氧化和腐蝕
5.2.2 MCrAlX型防護涂層的組元及作用
5.2.3 多弧離子鍍MCrAlX型防護涂層的示例
5.3 Ti-Al-cr系高溫鈦合金防護涂層
5.3.1 高溫鈦合金的氧化行為
5.3.2 高溫鈦合金防護涂層綜述
5.3.3 Ti-Al-Cr系高溫鈦合金防護涂層
5.4 熱障涂層
5.4.1 熱障涂層的基本設計
5.4.2 氧化鋯的基本物理化學性質
5.4.3 黏結層材料
5.4.4 熱障涂層制備工藝
5.4.5 熱障涂層研究重點
參考文獻
6 多弧離子鍍裝飾涂層
6.1 TiN裝飾涂層
6.2 ZrN裝飾涂層
6.3 摻金裝飾涂層
6.4 其他裝飾涂層
參考文獻
7 多弧離子鍍在功能薄膜中的應用
7.1 DLC膜
7.2 CN膜
7.3 氧化物薄膜
7.3.1 氧化鈦薄膜
7.3.2 氧化鋅薄膜
7.3.3 氧化銦錫(ITO)薄膜
7.3.4 氧化鎂薄膜
7.3.5 氧化鋁薄膜
7.3.6 氧化銅薄膜
7.4 金屬膜
7.5 貯氫薄膜
7.6 其他復合薄膜
7.7 本章小結
參考文獻
8 多弧離子鍍合金涂層的成分問題
8.1 合金(反應)膜的制備方法
8.1.1 單元素靶多靶共用
8.1.2 鑲嵌組合
8.1.3 合金靶應用與成分問題
8.2 成分離析現(xiàn)象的一般規(guī)律
8.3 成分離析效應的基本物理解釋
8.3.1 基片不加負偏壓的情形
8.3.2 基片加一定負偏壓后的情形
8.3.3 陰極靶材各組元含量對成分離析的影響
8.3.4 基片負偏壓對成分離析的影響
8.4 靶材成分設計
8.4.1 設計方法(1)
8.4.2 設計方法(2)
8.5 本章小結
參考文獻
9 超硬反應膜形成元素分析
9.1 超硬膜形成元素
9.1.1 合金元素選擇的制約因素
9.1.2 基體元素與合金化元素
9.2 超硬反應膜合金元素的物理特性分析
9.3 合金化元素的作用
9.3.1 鉻(Cr)元素的作用
9.3.2 釩(V)元素的作用
9.3.3 鋯(Zr)元素的作用
9.3.4 硅(Si)元素的作用
9.3.5 鉬(Mo)元素的作用
9.3.6 釔(Y)、鉿(Hf)、硼(B)元素的作用
9.4 多元超硬反應膜的發(fā)展趨勢
參考文獻
10 多弧離子鍍、滲復合工藝
10.1 多弧離子鍍、滲復合工藝
10.1.1 離子滲氮、離子鍍復合工藝
10.1.2 加弧輝光滲鍍復合工藝
10.1.3 鍍滲復合工藝
10.2 研究的前沿問題及發(fā)展方向
參考文獻
11 脈沖偏壓多弧離子鍍
11.1 脈沖偏壓工藝的工作原理
11.2 脈沖偏壓沉積工藝
11.3 脈沖偏壓多弧離子鍍技術的特征和內涵
11.3.1 脈沖偏壓多弧離子鍍的熱力學類型和特征
11.3.2 鍍膜等離子體的物理原理
11.3.3 鍍膜電路的電磁兼容問題
11.4 脈沖偏壓對薄膜組織結構及性能的影響
11.5 脈沖工藝在制備各種膜層中的應用
11.6 脈沖工藝在工業(yè)生產中的應用前景
11.7 發(fā)展方向和前景
參考文獻