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內(nèi)容簡介

　　本書是美國最為流行的教科書之一。它分為4卷：基本概念，衍射理論，成像原理及能譜分析。其中第1卷主要講解電子顯微鏡的基本概念，包括衍射基礎知識、顯微鏡的組成部件、儀器構(gòu)造與功能以及樣品制備。第2卷介紹衍射圖像、倒易點陣、衍射電子像的標定，以及各種衍射分析方法。第3卷主要是關于成像原理。該卷對材料研究中典型的課題進行系統(tǒng)的介紹。比如晶體缺陷、內(nèi)應力、相分析等。該卷還著重介紹了高分辨電子顯微鏡和圖像模擬。第4卷討論各種能譜的分析方法與技術。比如X射線譜、X射線定量定性分析、電子能量損失譜、離子能量損失譜等。在電子顯微學研究中最為基本的理論是衍射理論，因而該書利用相當大的篇幅介紹衍射理論以及與其緊密相關的晶體結(jié)構(gòu)，這些知識是材料學專業(yè)的重要基礎理論之一。本書作為教材很有創(chuàng)新性，而且把這一通用的材料表征技術的實際應用進行了必要的介紹和論述，是短時間內(nèi)掌握電子顯微鏡的最佳學習途徑，無論是電子顯微鏡初學者還是高級研究人員都將開卷有益。它也是亞馬遜網(wǎng)上書店最暢銷的教材之一。

作者簡介

暫缺《透射電子顯微學（4卷本影印版）》作者簡介

圖書目錄

Ⅰ Basics
　1 The Transmission Electron Microscope
　2 Scattering and Diffraction
　3 Elastic Scattering
　4 Inelastic Scattering and Beam Damage
　5 Electron Sources
　6 Lenses,Apertures,and Resolution
　7 How to“See”Electrons
　8 Pumps and Holders
　9 The Instrument
　10 Specimen Preparation
Ⅱ Diffraction
　11 Diffraction Patterns
　12 Thinking in Reciprocal Space
　13 Diffracted Beams
　14 Bloch Waves
　15 Dispersion Surfaces
　16 Diffraction from Crystals
　17 Diffraction from Small Volumes
　18 Indexing Diffraction Patterns
　19 Kikuchi Diffraction
　20 Obtaining CBED Patterns
　21 Using Convergent-Beam Techniques
Ⅲ Imaging
　22 Imaging in the TEM
　23 Thickness and Bending Effects
　24 Planar Defects
　25 Strain Fields
　26 Weak-Beam Dark-Field Microscopy
　27 Phase-Contrast Images
　28 High-Resolution TEM
　29 Image Simulation
　30 Quantifying and Processing HRTEM Images
　31 Other Imaging Techniques
Ⅳ Spectrometry
　32 X-ray Spectrometry
　33 The XEDS-TEM Iterface
　34 Qualitative X-ray Analysis
　35 Qualitative X-ray Microanalysis
　36 Spatial Resolution and Minimum Detectability
　37 Electron Energy-Loss Spectrometers
　38 The Energy-Loss Spectrum
　39 Microanalysis with lonization-Loss Electrons
　40 Everything Else in the Spectrum