大容量真空開關(guān)理論及其產(chǎn)品開發(fā)

前言
第1章 大電流真電弧收縮現(xiàn)象和陽極斑點形成的理論分析
　1.1 大電流真空電弧的收縮現(xiàn)象
　1.2 陽極斑點形成的理論和分析
第2章 真空電弧燃弧過程的放電和吸氣現(xiàn)象的分析
　2.1 概論
　2.2 燃弧過程中的氣體釋放
　2.3 真空電弧生成生物的吸氣
　2.4 Tm時燃弧期間的動態(tài)真空度
　2.6 弧后吸氣作用
　2.7 結(jié)論
第3章 真空電弧與其電極表面的熱過程研究
　3.1 觸頭表面過程的顯熱容模型
　3.2 CuC觸頭電侵蝕的計算
　3.3 觸頭表面液池中的物理過程
　3.4 熔池凝固特性及對表面形貌的影響
　3.5 結(jié)論
第4章 真空電弧熄滅后的介質(zhì)強度恢復(fù)過程的研究
　4.1 弧后真空隙介質(zhì)強度恢復(fù)的理解與分析方法
　4.2 介質(zhì)恢復(fù)時間的理論計算
　4.3 介質(zhì)強度恢復(fù)時間的測量
　4.4 介質(zhì)恢復(fù)研究的分析與結(jié)論
第5章 真空滅弧室經(jīng)大電流開斷后的絕緣耐壓測試研究
　5.1 弧后絕緣耐壓的實驗研究
　5.2 真空滅弧室關(guān)合操作后的絕緣變化
　5.3 大電流開斷后絕緣劣化機理分析
　5.4 結(jié)論
第6章 真空滅弧室內(nèi)部電場分布的設(shè)計
　6.1 程序介紹
　6.2 計算機實例及分析
　6.3 結(jié)論
第7章 真空滅弧室的擊穿統(tǒng)計特性研究
　7.1 擊穿統(tǒng)計特性的實驗研究
　7.2 擊穿統(tǒng)計特性的理論分析
　7.3 真空擊穿的面積效應(yīng)
　7.4 弧后重擊穿統(tǒng)計特性
　7.5 結(jié)論
第8章 真空滅弧室在開斷過程中對電場影響的計算與分析
　8.1　具有導電情況下的電場方程
第9章 線圈型縱向磁場結(jié)構(gòu)真空滅弧室的磁場計算與測量
第10章 真空斷路器用CuCr觸頭材料的改性研究
第11章 真空斷路器機械特性的研究
第12章 真空斷路器操動機構(gòu)的優(yōu)化設(shè)計和分析
第13章 110kV雙斷口真空斷路器機構(gòu)設(shè)計
第14章 真空觸發(fā)開關(guān)
第15章 桿式手操作真空負荷開關(guān)的研制
第16章 10Vkdd 容量和110kV高電壓真空斷路器的開發(fā)
第17章 真空發(fā)電機斷路器的研制