類金剛石膜的制備、性能與應用

前言
第一章 類金剛石膜概述
1.1 類金剛石膜的制備方法
1.2 類金剛石膜的性能
1.3 類金剛石膜的應用
參考文獻
第二章 場發(fā)射研究進展
2.1 場發(fā)射的理論
2.2 場發(fā)射平板顯示陰極材料的發(fā)展狀況
2.3 冷陰極場發(fā)射顯示器件的研究進展
參考文獻
第三章 激光濺射制膜技術研究進展
3.1 PLD基本原理及物理過程
3.2 PLD技術制備薄膜材料的優(yōu)、缺點
3.3 PLD技術在功能薄膜研究中的應用
參考文獻
第四章 激光濺射制備類金剛石膜生長理論與實驗設備
4.1 激光濺射制備類金剛石膜生長理論及文獻綜述
4.2 激光濺射制備類金剛石膜實驗設備及工藝
4.3 類金剛石膜性能測試手段
參考文獻
第五章 高功率高重復頻率脈沖準分子激光制備類金剛石膜研究
5.1 實驗參數(shù)對DLC膜制備的影響
5.2 最佳工藝條件下沉積的類金剛石膜的性能
5.3 本章小結
參考文獻
第六章 類金剛石膜冷陰極場發(fā)射特性研究
6.1 類金剛石膜場發(fā)射性能
6.2 氫對類金剛石膜場發(fā)射性能的影響
6.3 氮摻雜對類金剛石膜的結構、性能及場發(fā)射性能的影響
6.4 本章小結
參考文獻
第七章 類金剛石膜冷陰極場發(fā)射平板顯示器件設計與制作
7.1 簡單二極管結構FED器件
7.2 矩陣選址二極管結構
7.3 本章小結
參考文獻
第八章 總結與展望